光刻机照明系统透镜表面膜层生长更加均匀
2021-05-06 07:15:07 作者:吕璇/整理

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▲《中国激光》由中国科学院上海光学精密机械研究所主办、中国激光杂志社出版

《中国激光》近期以封面文章报道了中国科学院上海光学精密机械研究所张伟丽研究组在大口径大陡度透镜表面膜层性能提升方面做出的一系列突破性进展,该研究采用宽角宽带膜系和温度-转速综合调控技术,解决了大口径大陡度透镜表面膜层倾斜沉积导致的膜层生长特性改变和均匀性难题。

高精密光学系统,尤其是光刻机系统中,通常会设计并使用大量小曲率半径的大陡度透镜以实现大数值孔径,这对镀制其表面的深紫外薄膜提出了极高的要求。

与平面光学元件相比,大陡度透镜表面上的薄膜生长特性更为复杂,需考虑膜层折射率非均匀性和厚度非均匀性等问题,而研究大陡度透镜表面膜层均匀性,是提升其元件光学性能及稳定性的前提。

近十年来,张伟丽研究组围绕提升大陡度透镜表面膜层性能方面开展了系统研究,建立了大陡度透镜表面膜层沉积角度变化计算模型,揭示了大陡度透镜表面薄膜生长特性与沉积角度和曲率半径的依赖关系,发展了基于温度-转速的折射率非均匀性调控技术,设计了宽角宽带增透膜膜系,有效提升了大陡度透镜表面膜层折射率均匀性,实现了大口径大陡度复杂曲面薄膜元件光谱均匀性优于公开报道水平。


  作者:吕璇/整理

  编辑:许琦敏

责任编辑:任荃

图片来源:中国激光杂志社


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